■電子デバイス界面テクノロジー研究会
(第23回研究会)
1/19〜1/20 ＠東レ総合研修センター
SiC C面上にwet及びdry酸化過程で形成したSiO2膜界面欠陥の比較（ポスター）
飯塚 望, 蓮沼 隆
熱処理によるSiN膜中捕獲電荷の分布変化（ポスター） 安田賞
小澤 航大, 蓮沼 隆
TEOS-CVD-SiO2/SiCの界面特性の評価（ポスター）
川村 浩晃, 蓮沼 隆
HF溶液中でのC-V測定によるSiO2中電荷密度の深さ方向分布評価（ポスター）
中澤 優斗, 蓮沼 隆