Nano Technology & Nano Science 筑波大学 物理工学系 村上・牧村・深田研究室
平成17年度
卒業論文
  • レーザープラズマ軟X線による光学材料のガス中アブレーション
  • レーザーアブレーションによるn型,p型Siナノ細線の生成
  • Siナノ結晶を含むSi酸化膜中へのAlドーピング
  • SiO2膜中Siナノ結晶の形成過程とEr不純物の発光への効果
修士論文
  • Alによる還元作用を利用したSiO2表面層でのSi析出領域の形成とフォムト秒レーザー照射効果
  • レーザーアブレーションによるSiO2膜中Siナノ結晶へのPドナードーピング
  • Siナノ結晶含有SiO2膜中のErイオン発光に及ぼす水素の効果
  • レーザープラズマ軟X線によるワイドギャップ透明材料のアブレーション
  • レーザーアブレーション法により生成したSiナノワイヤーの量子閉じ込め効果とPドナードーピング
平成16年度
卒業論文
  • レーザープラズマ軟X線を用いた無機透明材料の極微細光直接加工
  • レーザーアブレーション法により生成されるSiナノ細線のサイズ制御とフォノン閉じ込め効果
  • Siナノ結晶とEr不純物を含むSiO2膜中の水素効果と熱的安定性
  • レーザーアブレーション法によるSiナノ結晶と1.5μm発光するErを含むSiO2薄膜の作製
修士論文
  • フェムト秒レーザーを用いたSiO2中ナノSi領域の形成の試みと初期過程
  • レーザーアブレーション法で作製したSiナノ結晶・Erを含むSiO2膜の近赤外発光
  • レーザープラズマ軟X線照射による石英のアブレーション 物理的機構
  • 高濃度水素原子導入によるn型及びp型Siにおける欠陥形成とキャリアの回復
  • レーザーアブレーション後のSiナノ微粒子の生成過程とMnドープSiナノ結晶の発光
平成15年度
卒業論文
  • レーザープラズマ軟X線を用いた無機透明材料の微細加工
  • レーザーアブレーション法を用いたSiナノ細線の創製
  • フェムト秒レーザー照射によるSiO2中の誘起構造変化の過程
  • レーザーアブレーション法によるSiナノ結晶を含むSiO2薄膜へのMnドーピング
  • BドープSi中に形成された水素関連複合体 −光誘起構造変化とキャリアへの影響−
修士論文
  • シリコン中の水素原子侵入過程と同位体効果
平成14年度
卒業論文
  • レーザープラズマ軟X線・紫外レーザー光同時照射によるSiO2のナノ加工
  • フェムト秒レーザー照射によるSiO2中の誘起欠陥
  • 水素処理Bドープ結晶Si中の新しいB-Hセンター
  • Siナノ微結晶を含むSiO2中のErのフォトルミネッセンス
  • レーザーアブレーション法によるSiナノ微結晶へのPドーピング
修士論文
  • BドープSi中水素の状態と光励起構造変化
  • SiO2中Siナノ構造の創製とP不純物ドーピング
  • レーザーアブレーション法で作製したSiナノ結晶の水素化と不純物ドーピング効果
  • フェムト秒レーザー照射によるSiO2局所的構造変化
  • ErとSiのナノ結晶を含むSiO2薄膜の発光
博士論文
  • シリコン中の水素関連多原子空孔型欠陥と水素原子
  • レーザーアブレーション法による可視発光 Siナノ微粒子の生成ダイナミックスと表面修飾 −時間分解測定−
  • レーザーアブレーションによるシリコンナノ結晶:Er系の作製と近赤外発光特性の研究
平成13年度
卒業論文
  • レーザーアブレーション法によるSiナノ微結晶へのPドーピング
修士論文
  • シリコン結晶中の水素分子を捕捉する多原子空孔
  • レーザーアブレーションによるSiナノ微粒子膜の堆積-動的挙動とドロップレットの除去-
  • シリコン結晶中の水素関連複合中心
平成12年度
卒業論文
  • Siナノ微粒子の水素化による可視発光の高輝度・短波長化
  • レーザーアブレーション法で作製したErドープSiナノ微結晶の温度消光しない1.5μm発光
  • BドープSi中水素の光照射効果
  • レーザーアブレーション法で作製したSiナノ微結晶の不純物ドープによる高輝度可視発光
  • 電子スピン共鳴法によるナノ構造Siの不純物ドープと表面制御の研究
  • Si結晶中の水素分子を捕捉する多原子空孔の熱的挙動
平成11年度
卒業論文
  • Si結晶中多原子空孔に捕捉された水素分子の熱的安定性
  • シリコン結晶中水素分子形成のドーピング効果
  • Siナノ微粒子へのPドーピング
  • レーザーアブレーションで作製する不純物ドープSiナノ微粒子の時間分解測定
修士論文
  • 結晶Si中の多原子空孔に捕捉された水素分子の形成・消滅挙動
  • 低温電子スピン共鳴による酸素共添加ErドープGaAs中のEr-O複合中心の研究
  • レーザーアブレーション法による可視発光Siナノ微粒子の生成と時間分解測定
  • レーザーアブレーション法による1.5μmで発光するErドープSiナノ微結晶の作製
平成10年度
卒業論文
  • GaAs中Er不純物
  • レーザーアブレーション法により作製したSiOx薄膜の赤外吸収分光測定
修士論文
  • 水素原子処理によるシリコン結晶中での水素分子形成
  • イオン注入シリコン中の水素分子
  • レーザーアブレーション法によるSiO2薄膜中のSiナノ微粒子の作製と光ルミネッセンス
  • レーザーアブレーション法による可視発光Siナノ微粒子の作製とAFM観察
博士論文
  • III-V族化合物半導体薄膜中の希土類原子に関する低温電子スピン共鳴測定による研究
平成9年度
博士論文
  • シリコン結晶中の水素分子と水素複合体に関する研究
平成8年度
修士論文
  • レーザーアブレーションによる可視発光Si膜の作製
  • 水素原子処理によるSi結晶中の水素の状態及び挙動
平成7年度
卒業論文
  • 希ガス雰囲気中レーザーアブレーションにより作成したシリコン堆積物の物性
修士論文
  • レーザーアブレーションにより生成されるSi粒子の挙動とその分光測定
平成6年度
卒業論文
  • レーザーMBE装置とシリコン薄膜成長
修士論文
  • レーザーアブレーションのダイナミクスとSi超微粒子の形成
博士論文
  • イオン注入GaAsの短時間・局所領域レーザー照射による固相エピタキシー
平成5年度
卒業論文
  • シリコン結晶中Pドナーの水素パッシベーション効果
修士論文
  • n型Si中の水素状態と水素パッシベーション
平成4年度
修士論文
  • InP中のドナークラスター
  • Si1-xGexのレーザ固相エピタキシャル成長とPドナー電子状態の研究

Copyright (C) 2004 Murakami, Makimura, Uchida Lab., University of Tsukuba.