実験装置
結晶成長装置 (MBE chambers and RF sputtering for thin-film growth)
| BaSi2系分子線エピタキシー装置 | 窒化物系分子線エピタキシー装置 | BaSi2系分子線エピタキシー装置Ⅱ | Ge系分子線エピタキシー装置 |
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| GaAs系分子線エピタキシー装置 | RFマグネトロンスパッタ装置 | ヘリコン波スパッタ装置 | RFマグネトロンスパッタ装置Ⅱ |
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| 真空蒸着装置 | |||
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X線回折装置 (X-ray diffraction)
| X線回折装置 | |||
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光学特性評価装置 (Equipments for optical characterizations)
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ルミネッセンス測定装置 (温度可変 EL, PL, TR-PL, 吸収) |
分光感度測定装置 | ||
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電気特性評価装置 (Equipments for electrical characterizations)
| 温度可変 I-V, C-V, Hall測定, DLTS | 原子間力顕微鏡 (AFM, KFM, MFM) | マイクロプローバ | 熱電特性評価装置 |
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高温加熱装置(アニール炉）(Furnaces for conventional and rapid thermal annealing)
| アニール炉 | RTA炉 | 電気炉 ×3台 | 真空ポンプ付き電気炉 |
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| 高温その場観察装置 | グローブボックス内小型アニール炉 | ||
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その他
| 段差計 | 段差計Ⅱ | 微分干渉顕微鏡 | グローブボックス |
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